技術編號：6856325
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種氧化層的制造方法，特別涉及具有不同厚度的氧化層的制造方法。在集成電路組件中，不同的電路，需要具有不同基礎操作特性的不同電路組件密切配合。為適應電路組件的競爭力及多樣性，在某些組件上要求具有不同的氧化層厚度，以滿足不同操作電壓或電容的需求。場效應晶體管(FETs)是集成電路中最廣受使用的組件之一。因為場效應晶體管電路可執(zhí)行多種不同的功能，且場效應晶體管的制造具有高度的再生性與可預測性。場效應晶體管組件的另一個優(yōu)點是組件尺寸可以較小，并且可以被緊...
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