技術(shù)編號(hào)：6855736
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明一般涉及在目標(biāo)圖案中產(chǎn)生并布置輔助特征以提供OPC并提高整體成像性能的方法、程序產(chǎn)品和裝置。背景技術(shù) 平版印刷裝置能被用在例如集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，掩?？梢园c集成電路各層相應(yīng)的電路圖案，圖案可以被成像到已經(jīng)被覆蓋一層輻射敏感材料(抗蝕劑)的基板(硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如包含一個(gè)或多個(gè)模片)。一般，單個(gè)晶片會(huì)包含由投影系統(tǒng)依次單個(gè)照射的相鄰目標(biāo)部分形成的完整網(wǎng)格。在一種類型的平版印刷投影裝置中，對(duì)每一個(gè)目標(biāo)部分以一步曝光整個(gè)掩模...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。