技術(shù)編號(hào)：6855006
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種溶液體積測(cè)量裝置及其容器，尤其涉及一種可精確測(cè)量出溶液體積的溶液體積測(cè)量裝置及其容器。背景技術(shù) 隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)的進(jìn)步，晶片表面的圖案愈來(lái)愈精密，因此晶片表面的清潔對(duì)于晶片制造過(guò)程中的成品率影響極為重大。目前常用到的濕式清洗法，是利用化學(xué)溶液進(jìn)行晶片表面的清洗。不同的化學(xué)溶液，對(duì)于晶片的去除功效不同。例如美國(guó)無(wú)線電公司(Radio Corporation of America，RCA)所開(kāi)發(fā)，用以清洗晶片的RCA清洗機(jī)臺(tái)中，包括由硫酸(H2...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。