技術(shù)編號：6851965
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是有關(guān)一種，具體而言，本發(fā)明是關(guān)于一種在半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)上制造氧化阻障層的方法。背景技術(shù) 為了制造半導(dǎo)體元件，需先形成一些典型的復(fù)雜結(jié)構(gòu)，這些結(jié)構(gòu)的尺寸及特性必須小心控制以確保元件的信賴度及元件特征的可預(yù)測性，為了建立一個(gè)復(fù)雜結(jié)構(gòu)，需小心執(zhí)行一些典型的制造處理步驟，以確保所執(zhí)行的任何處理步驟不會(huì)對已經(jīng)形成的任何半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)的特性與特征造成不良的影響。一個(gè)存在的問題是在半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)中的多晶區(qū)域不是經(jīng)由與大氣接觸就是在后續(xù)的制作工藝步驟中會(huì)被氧化，例如在形成一柵極...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。