技術(shù)編號：6851233
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種通過如由噴墨法代表的液滴噴射形成的半導(dǎo)體裝置和制造該半導(dǎo)體裝置的方法。背景技術(shù) 通常，利用光掩模(以下，光刻工藝)通過曝光工藝構(gòu)圖各種薄膜來制造所謂的有源矩陣驅(qū)動(dòng)顯示面板或半導(dǎo)體集成電路，其每一個(gè)都由玻璃基板之上的、如由薄膜晶體管(以下，TFT)代表的半導(dǎo)體元件組成。通過光刻工藝，將光刻膠涂布在預(yù)烘干的基板的整個(gè)表面上，且經(jīng)由光掩模使紫外線等發(fā)射于此，然后通過顯影形成光刻膠圖案。其后，利用光刻膠圖案作為掩模圖案蝕刻掉要成為薄膜圖案的部分中存在...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。