技術(shù)編號：6850089
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明是有關(guān)于一種半導體元件的制作方法，且特別是有關(guān)于一種半導體元件中材料表面的接觸窗開口的形成方法。背景技術(shù) 在半導體元件的制作中，大多希望能提供較小直徑的開口以連接到元件。然而此會受限于光罩開口的直徑，其中光罩開口是暴露出覆蓋于待蝕刻材料上的光阻層。因此，形成比使用的光罩開口及光阻層所暴露的區(qū)域小的連接開口直徑，是讓人期望的。習知技術(shù)中已達成上述目的，其技術(shù)是利用光罩對光阻層進行曝光后，向下蝕刻出開口，此開口連接至需要被連接的表面。之后，配置覆蓋材料至...
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