技術(shù)編號(hào)：6849703
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用本申請(qǐng)是2004年1月23提交的美國(guó)專利申請(qǐng)No.10/764,227的系列申請(qǐng)，其公開的內(nèi)容在本文中全文引用以供參考。 背景技術(shù) 沉浸式石印在給定的曝光波長(zhǎng)下能比常規(guī)的投影石印提供更好的分辨力增強(qiáng)和更高的數(shù)值孔徑。例如，沉浸式石印能將在193nm的波長(zhǎng)下的石印延伸到45 nm的節(jié)點(diǎn)或以下，從而提供一種157nm的曝光波長(zhǎng)，遠(yuǎn)紫外(EUV)、和其它可能的技術(shù)的備用方案。用光石印系統(tǒng)可以印刷的最小特征寬度(W)由瑞利方程W＝(k1λ)/(N...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。