技術(shù)編號(hào):6847730
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及低溫下,低至450℃或更低的溫度,制造絕緣柵半導(dǎo)體器件的工藝方法,還涉及以高成品率,制造包括有高集成度的所述器件的集成電路(IC)的方法。本發(fā)明涉及用上述工藝制造的半導(dǎo)體器件,進(jìn)一步涉及高可靠性的半導(dǎo)體器件。依照本發(fā)明的半導(dǎo)體器件,適用于,例如,有源的陣列驅(qū)動(dòng)液晶顯示器,圖象傳感器驅(qū)動(dòng)電路等,以及用于SOI集成電路及通用半導(dǎo)體集成電路(例如,微處理機(jī)、微控制器、微機(jī)、半導(dǎo)體存貯器等)的薄膜晶體管。近來,人們致力于研究在絕緣襯底上制造絕緣柵半導(dǎo)體器...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。