技術(shù)編號(hào)：6846955
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻設(shè)備和在器件(例如集成電路(IC))制造中使用該設(shè)備的方法。更準(zhǔn)確地說，本發(fā)明涉及使用偏振光改善成像特性，例如曝光寬容度，同時(shí)保持和延長(zhǎng)光刻設(shè)備中照射系統(tǒng)的壽命。背景技術(shù) 光刻設(shè)備就是將所期望的圖案施加在襯底上的機(jī)器，通常是施加在襯底的目標(biāo)部分上。光刻設(shè)備可以用在例如集成電路(IC)的制造。在該例子中，又稱作掩?；蚍謩澃宓膱D案形成器件可用于產(chǎn)生在IC的個(gè)別的層上形成的電路圖案。這種圖案可以轉(zhuǎn)移到襯底(例如硅晶片)的目標(biāo)部分(例如包含一個(gè)或幾個(gè)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。