技術(shù)編號：6846757
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及用于制造半導(dǎo)體設(shè)備的裝置，并且更具體地涉及用于將預(yù)定的流體供應(yīng)至多個裝置的流體供應(yīng)系統(tǒng)。背景技術(shù) 一般來說，在制造半導(dǎo)體設(shè)備的工藝期間，多個層，比如多晶硅、氧化物、氮化物和金屬，通常形成于用作半導(dǎo)體基片的晶片上。光阻材料覆蓋在層上。利用曝光工藝形成于光掩模上的圖案被轉(zhuǎn)錄到光阻材料上。在顯影工藝中，光阻材料被選擇性地移除從而在其上形成圖案。在利用光阻材料作為掩模時，執(zhí)行蝕刻工藝以便在晶片上形成與形成于光阻材料上的圖案相同的圖案。噴嘴安裝在執(zhí)行蝕刻工...
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