技術(shù)編號:6846416
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種分離(分割)合成件的方法和一種用來生產(chǎn)薄膜的過程。具體地說,本發(fā)明屬于最好用來生產(chǎn)在太陽能電池和半導(dǎo)體晶片中使用的薄膜的過程的。在絕緣體上的單晶半導(dǎo)體層的形成叫作SOI,即絕緣體上的硅或絕緣體上的半導(dǎo)體。對其已經(jīng)進(jìn)行了大量研究,因為利用SOI技術(shù)的裝置具有多個優(yōu)點不能由其上要制造硅集成電路的通常的大體積硅基片實現(xiàn)。特別是,SOI技術(shù)的采用產(chǎn)生如下優(yōu)點,即,SOI技術(shù)在例如如下幾點上是優(yōu)越的。(1)它使借助于容易分離的電介質(zhì)能實現(xiàn)高度集成。(2...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。