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用于制造硫族化合物存儲元件的蝕刻方法技術資料下載

技術編號:6844729

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本發(fā)明通常涉及半導體器件及制造領域,更加具體地,本發(fā)明涉及存儲元件和制造存儲元件的方法。背景技術 硫族化合物材料合金具有通過施加溫度在非晶相和晶相之間轉(zhuǎn)變的能力。相變既改變了材料的電學性能也改變了材料的光學性能。近來,這些材料已被引入諸如相變化存儲器(OUM)這樣的非易失性存儲元件。用于生產(chǎn)OUM的普通硫族化合物為GexSbyTez(GST),其中典型值為x=2,y=2及z=5。在輸入皮焦耳的能量的情況下,硫族化合物在毫微秒時段內(nèi)可以在多種電可探測的變化的...
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