技術(shù)編號：6834975
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種。背景技術(shù) 光刻裝置是可在襯底的目標(biāo)部分上施加所需圖案的機(jī)器。光刻裝置例如可用于集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可采用圖案形成裝置如掩模來產(chǎn)生與IC的單個(gè)層相對應(yīng)的電路圖案，該圖案可被成像到襯底(如硅晶片)上的具有一層輻射敏感材料(抗蝕劑)的目標(biāo)部分(例如包括一個(gè)或多個(gè)管芯)上。通常來說，單個(gè)襯底包含被連續(xù)曝光的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。已知的光刻裝置包括所謂的分檔器，其中通過將整個(gè)圖案一次性地曝光在目標(biāo)部分上來照射各目標(biāo)部分，還包括所謂的...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。