技術(shù)編號:6833042
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種制作單層或多層半導(dǎo)體納米結(jié)構(gòu)的方法,特別是指一種。背景技術(shù)半導(dǎo)體納米結(jié)構(gòu)是納米尺寸范圍的微小晶體結(jié)構(gòu),由于三或二維量子限制作用,半導(dǎo)體納米結(jié)構(gòu)具有分立的電子能譜,從而具有傳統(tǒng)的體材料和量子阱材料所不具備的特異的光學(xué)和電學(xué)性質(zhì)。更重要的是,這些特異的光電性質(zhì)完全取決于半導(dǎo)體納米結(jié)構(gòu)的尺寸和形狀,可以通過對半導(dǎo)體納米結(jié)構(gòu)的大小和形狀的控制來實現(xiàn)對半導(dǎo)體納米結(jié)構(gòu)光電性質(zhì)的人工剪裁。因此半導(dǎo)體納米結(jié)構(gòu)具有非常廣闊的應(yīng)用前景。在光電子器件方面,半導(dǎo)體納...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。