技術(shù)編號(hào):6832575
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及制造構(gòu)成諸如存儲(chǔ)器和CPU(中央處理單元)的半導(dǎo)體器件的半導(dǎo)體薄膜的方法、由相同半導(dǎo)體薄膜構(gòu)成的薄膜晶體管(TFT)、以及用于制造相同半導(dǎo)體薄膜和相同TFT的方法,和用于制造相同半導(dǎo)體薄膜的制造設(shè)備。本申請(qǐng)要求在2003年5月9日提交的日本專利申請(qǐng)No.2003-131405的優(yōu)先權(quán),將其并入這里以作參考。背景技術(shù) 通過(guò)在玻璃基板上形成半導(dǎo)體集成電路而制造的常規(guī)產(chǎn)品以TFT為代表。通過(guò)在涂覆有基板涂覆層102的玻璃基板101上形成溝道區(qū)103、源...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。