技術(shù)編號：6831805
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及使抗蝕劑在被處理材料上制作配線圖案的抗蝕劑圖案的形成方法、使用該抗蝕劑圖案的配線圖案的形成方法及半導(dǎo)體裝置的制造方法、電光學(xué)裝置及電子機(jī)器。背景技術(shù) 以往，作為半導(dǎo)體集成電路等的具有微細(xì)配線圖案的裝置的制造方法多采用光刻法。下述專利文獻(xiàn)1公開了通過光刻法形成用于用液滴噴出法而配置功能液的液滴的貯格圍堰(黑基質(zhì))的技術(shù)。專利文獻(xiàn)1 特開平6-347637號公報在光刻法中，在被處理材料上涂布抗蝕劑材料，形成抗蝕劑層，對該抗蝕劑層進(jìn)行曝光處理，其后進(jìn)行...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。