技術(shù)編號：6831530
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻(lithography)用洗滌液，更詳細(xì)而言，涉及不腐蝕低電介體材料等易腐蝕性材料、能夠有效除去光刻膠膜及下層防反射膜的光刻用洗滌液。本發(fā)明還涉及使用了上述光刻用洗滌液的配線形成方法。背景技術(shù)半導(dǎo)體裝置是在硅片等基板上對金屬配線層、低介電體層、絕緣層等進(jìn)行層壓而形成的裝置，采用將光刻膠圖案作為掩膜來進(jìn)行蝕刻處理的光刻法，對上述各層進(jìn)行加工從而制出該半導(dǎo)體裝置。使用洗滌液來除去上述光刻法中所使用的光刻膠膜、暫時層壓膜(亦稱犧牲膜 (犠牲膜))...
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