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用于單極半導體器件的制造方法和半導體裝置的制作方法技術資料下載

技術編號:6826005

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本發(fā)明涉及用于帶有漂移層的單極半導體器件的制造方法。此外,本發(fā)明還涉及半導體裝置。背景技術半導體器件經(jīng)常具有所謂的漂移層。漂移層被設計為在半導體器件的截止情況下接受截止電壓(Sperrspanrumg)。在半導體器件的導通運行中,可能有電流流過漂移層,其中盡可能小的電損耗功率是有利的。通常,半導體器件的漂移層沿著其生長方向具有均勻的、恒定的摻雜。作為對 1 ^" ' ^ M^l"Optimum Doping Profile for Minimum Ohm...
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