技術(shù)編號：6825961
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及放射線敏感性樹脂組合物。更詳細(xì)而言，涉及在IC等的半導(dǎo)體制造工序、液晶、熱敏頭(thermal head)等的電路基板的制造、其他的光刻蝕工序中使用的放射線敏感性樹脂組合物。背景技術(shù)化學(xué)增幅型放射線敏感性樹脂組合物是通過以KrF準(zhǔn)分子激光、ArF準(zhǔn)分子激光為代表的遠(yuǎn)紫外線等的放射線照射在曝光部生成酸，通過以該酸為催化劑的反應(yīng)使曝光部和未曝光部在顯像液中的溶解速度發(fā)生變化，在基板上形成抗蝕劑圖案的組合物。在進(jìn)行更精密的線寬控制時，例如，在設(shè)備的設(shè)計...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。