技術編號:6825492
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及半導體晶片的制造工藝,也涉及這種半導體晶片的使用和利用工藝。具體地,本發(fā)明涉及一種半導體晶片的制造工藝,所述半導體晶片用于制造半導體器件,例如微處理器、存儲器、邏輯電路、系統(tǒng)LSI、太陽能電池、圖象傳感器、光發(fā)射器件或顯示器件等;用作監(jiān)測晶片,例如用于形成膜的膜厚度監(jiān)控器、用于腐蝕操作的腐蝕深度監(jiān)控器或用于檢測和計數(shù)異物微粒的微粒監(jiān)控器;或作為假晶片用在處理系統(tǒng)中,以便調(diào)節(jié)膜形成、熱處理、摻雜或腐蝕的各種處理條件。本發(fā)明還涉及使用和利用所述半導體...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。