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Soi的可操作浮柵接觸的制作方法技術資料下載

技術編號:6825061

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本發(fā)明涉及半導體器件領域。具體說,本發(fā)明涉及絕緣體上半導體(SOI)器件。更具體說,本發(fā)明涉及一種SOI器件的浮柵保護二極管結構。絕緣體上半導體(SOI)技術涉及高速MOS和CMOS電路。關于SOI,在絕緣體上淀積一薄層半導體材料,以降低半導體層和底層襯底材料間的電容耦合。使CMOSFET柵充電,會使柵絕緣體質量退化。一般情況下,半導體芯片上的電路至少包括一個保護元件。體CMOS中的一種普通方法是用可獲得的第一布線層或金屬層在FET柵和FET體之間接一個二...
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