技術編號：6820606
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及半導體器件的制造裝置。下面參照圖9-12說明一種現(xiàn)有的半導體器件的制造裝置。該制造裝置是所謂的臺式系統(tǒng)(bay system)，它是由包括安裝在其中的相同種類的多個處理機構的處理臺構成的。如圖9所示，在凈化間40中設置對應于各種處理步驟的多個處理臺11-18。下面按照處理過程說明安裝在各個處理臺11-18中的處理機構。用于清洗晶片襯底的表面的清洗機構31安裝在清洗處理臺11中。氧化膜形成機構32安裝在氧化膜形成處理臺12中，其中氧化膜形成在晶片襯...
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