技術(shù)編號：6812602
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。背景技術(shù)發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明總地涉及半導(dǎo)體器件的制造，特別涉及半導(dǎo)體器件中使用的旋涂玻璃(通常稱做SOG)的固化方法。現(xiàn)有技術(shù)介紹在制造超大規(guī)模集成電路中，多級互連使用的層間介質(zhì)要求在大高寬比的空隙(金屬導(dǎo)體之間)中填充空隙充填劑并且具有高平坦度的形貌 (平面化)。要滿足這些要求，現(xiàn)已研究了大量的層間介質(zhì)形成工藝。現(xiàn)已開發(fā)了以四乙基原硅酸鹽(TEOS)為基礎(chǔ)的化學(xué)氣相淀積(CVD)、與化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)結(jié)合的偏置的高密度等離子體CVD。然而這些技術(shù)存在著許...
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