技術(shù)編號(hào)：6806883
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明總地是關(guān)于用于半導(dǎo)體處理設(shè)備的晶片夾持裝置，更具體地說，是關(guān)于用在成批型離子注入器中的晶片夾持裝置。發(fā)明背景在成批型離子注入器中，許多晶片裝在一受冷卻的臺(tái)板上，這一臺(tái)板構(gòu)成旋轉(zhuǎn)的注入盤的一部分并且暴露于離子束，以便對(duì)半導(dǎo)體晶片進(jìn)行摻雜。這種結(jié)構(gòu)布置使得可以用高電流的離子束來提高生產(chǎn)量，同時(shí)將晶片的溫度保持在允許的范圍內(nèi)。迄今，人們已經(jīng)做了旨在通過消除沾染和交叉沾染來改進(jìn)離子注入技術(shù)的許多努力。造成沾染的一個(gè)根源是積累的各種離子從暴露于離子束的晶片夾持...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。