技術(shù)編號：6805474
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及在被處理基板上實施等離子體處理的技術(shù)，特別是涉及把高頻提供給電極生成等離子體的方式的等離子體處理技術(shù)。本發(fā)明涉及用于制造半導(dǎo)體器件的半導(dǎo)體處理中的等離子體處理技術(shù)。其中所謂的半導(dǎo)體處理是指通過在半導(dǎo)體晶片和LCD(Liquid crystaldisplay液晶顯示器)和FPD(Flat Panel Display平面顯示器)等用的玻璃基板等的被處理基板上，用規(guī)定的圖案形成半導(dǎo)體層、絕緣層、導(dǎo)電層等，實施用于在此被處理基板上制造半導(dǎo)體器件、或包括連...
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