技術編號：6802720
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及將微波能耦合至一反應室特別是耦合到等離子體-CVD-涂覆室的裝置，具有一微波導線和在微波導線和反應室之間放置的同軸導體，其中至少一同軸導體(4)和反應室(14)形成了供應用微波頻率的一諧振器。在進行基質涂覆時，特別是對放電球形基質涂覆時，基質放在一反應室內并處于借微波激勵的反應氣體的等離子體氣氛下。涂層的質量取決于照射微波能量的恒定性等。如果對照射的微波射線進行調整，隨后進行處理的放電涂層就具有不同的質量。對照射入的微波能的恒定性起決定性影響的部...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。