技術(shù)編號：6792394
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及半導體器件的快速熱處理設(shè)備，尤其是涉及一種快速升降溫退火爐。背景技術(shù)目前在半導體器件的研發(fā)和生產(chǎn)領(lǐng)域，在歐姆接觸快速合金、硅化物合金退火、氧化物生長、銅銦鎵硒光伏應(yīng)用中的硒沉積及其他快速熱處理工藝中，快速升降溫工藝大多采用造價及維護成本高昂的紅外燈管、金屬固定內(nèi)腔、水冷卻結(jié)構(gòu)的升降溫熱處理爐進行，由于現(xiàn)有熱處理爐的結(jié)構(gòu)所限，不僅生產(chǎn)時能耗非常大，且升降溫速率只能控制在(200 0C /S ;同時由于現(xiàn)有熱處理爐的生產(chǎn)工藝設(shè)計較為單一，一些條件...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。