技術(shù)編號：6771873
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明總地涉及硬盤驅(qū)動器，更特別地，涉及制造介質(zhì)的系統(tǒng)和方法。 背景技術(shù)硬盤驅(qū)動器中對更高面密度的需求要求頭和盤介質(zhì)之間的界面的磁間距持續(xù)減小。從磁記錄介質(zhì)的觀點來說，減小磁間距的嚴(yán)峻挑戰(zhàn)在于減小盤介質(zhì)上的碳外涂層厚度的固有極限。常規(guī)制造技術(shù)的一個限制是它們產(chǎn)生的表面粗糙度。粗糙表面減小了常規(guī)涂層執(zhí)行其提供本征覆蓋功能的能力，這導(dǎo)致對盤介質(zhì)的腐蝕。此外，粗糙介質(zhì)提供對于頭的更小的間隙。機械拋光工藝諸如末級帶拋光(final tape polish)或擦磨拋...
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