技術(shù)編號:6637531
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種,首先采用局部匹配以獲得一系列參考點(diǎn)對,然后在更高層次上對已獲得的參考點(diǎn)對通過構(gòu)建拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)進(jìn)行驗(yàn)證,使匹配效果達(dá)到全局最優(yōu)。本發(fā)明包括計(jì)算輸入指紋細(xì)節(jié)點(diǎn)與模板指紋任意細(xì)節(jié)點(diǎn)對相似度;構(gòu)造二部圖的步驟;利用KM算法得出最佳匹配。更進(jìn)一步包括通過建立細(xì)節(jié)點(diǎn)的拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)去除錯(cuò)誤匹配點(diǎn)對的步驟。本發(fā)明凸顯了圖像匹配中的全局性,進(jìn)一步提高了算法魯棒性,抗噪能力強(qiáng),能夠兼顧匹配精度和運(yùn)算時(shí)間,使匹配效果達(dá)到全局最優(yōu)。專利說明 [0001] 本發(fā)明屬...
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