技術(shù)編號：6614568
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻，并且更特別地涉及用于在光刻中使用的對光掩膜 的驗證。背景技術(shù)光掩膜和掩膜版(以下稱"光掩膜"或"掩膜")在光刻中和曝光輻射 源一起使用以在諸如光刻膠之類的感光膜上投射圖像。掩膜典型地是部 分透明和部分不透明的，通常具有其上帶有限定不透明構(gòu)圖的4各金屬構(gòu) 圖的透明石英襯底。掩膜的設(shè)計是一個復(fù)雜的工藝。為了正確地對感光 膜進(jìn)行構(gòu)圖，掩膜的不透明特征需要看起來與預(yù)定要在感光膜中達(dá)到的 構(gòu)圖不同。出現(xiàn)這種情況是因為必須補償在對鄰近特征進(jìn)行光刻曝光時...
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