技術(shù)編號：6590458
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及選區(qū)電子衍射圖譜圖像處理法確定熱解炭擇優(yōu)取向度，尤其是選區(qū)電子衍射圖譜圖像處理法確定人工心瓣含硅熱解炭涂層擇優(yōu)取向度。背景技術(shù)由流化床化學(xué)氣相沉積(CVD)工藝制備而成的熱解炭涂層極易在沉積過程中形成擇優(yōu)取向。擇優(yōu)取向與沉積工藝及沉積條件相關(guān)，同時也影響著熱解炭涂層的結(jié)構(gòu)與性能。通過制備不同擇優(yōu)取向的熱解炭，可以滿足不同的材料性能需求，對于人工心瓣熱解炭涂層而言，則要求是高密度各向同性熱解炭，因此，定量地測定熱解炭的擇優(yōu)取向度具有深遠(yuǎn)的意義。運(yùn)用...
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