技術(shù)編號：6582842
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明一般地涉及電子設(shè)計自動化。具體而言，本發(fā)明涉及用于使用主分量分析 基于緊湊Abbe內(nèi)核生成來確定光刻工藝模型的方法和設(shè)備。背景技術(shù)計算技術(shù)的迅速發(fā)展可以主要地歸功于已經(jīng)使得有可能將數(shù)以千萬計的器件集 成到單個芯片上的半導(dǎo)體制造技術(shù)的改進(jìn)。 可以通過將光暴露于涂敷有光刻膠的晶片上而刻畫圖案的光刻是工業(yè)集成電路 (IC)制造中的重要工藝。光刻工藝模型普遍地用來對光刻工藝進(jìn)行建模。工藝模型可以在 設(shè)計半導(dǎo)體芯片期間使用于多個應(yīng)用中。例如，光刻工藝模型普遍地...
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