技術(shù)編號(hào)：6577230
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于自動(dòng)控制、信息技術(shù)和先進(jìn)制造領(lǐng)域，針對(duì)在對(duì)光刻線寬預(yù)測(cè)過程所存在的數(shù)據(jù)維數(shù)高且訓(xùn)練數(shù)據(jù)分批到達(dá)的特點(diǎn)，提出一種基于矩陣求逆降維獲得在線增量式極限學(xué)習(xí)機(jī)的光刻線寬智能預(yù)測(cè)方法，其可實(shí)現(xiàn)對(duì)指標(biāo)預(yù)測(cè)模型參數(shù)的在線調(diào)整，該方法具有較好的預(yù)測(cè)精度和效率。背景技術(shù)光刻線寬是影響微電子產(chǎn)品良率的關(guān)鍵工藝指標(biāo)，但目前其檢測(cè)結(jié)果存在較大滯后，難以實(shí)現(xiàn)對(duì)影響該指標(biāo)的相關(guān)關(guān)鍵工藝操作參數(shù)的在線優(yōu)化調(diào)整，從而影響了產(chǎn)品良率的改進(jìn)，因而在微電子生產(chǎn)線中亟需實(shí)現(xiàn)對(duì)光刻線寬指...
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