技術(shù)編號(hào)：6544400
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了，包括提供芯片版圖并通過(guò)邏輯運(yùn)算獲得冗余圖形的填充區(qū)域；基于設(shè)計(jì)規(guī)則在所述冗余圖形的填充區(qū)域中填充冗余圖形；將所述芯片版圖劃分為多個(gè)不重合的窗口；以及計(jì)算各所述窗口在填充所述冗余圖形后的圖形密度并判斷所述圖形密度是否超出預(yù)定范圍，若超出則通過(guò)邏輯運(yùn)算移除該窗口內(nèi)的冗余圖形并填充新的冗余圖形，以使各所述窗口的最終圖形密度調(diào)整在所述預(yù)定范圍內(nèi)。本發(fā)明能夠有效提高圖形層密度的均勻性。專利說(shuō)明[0001]本發(fā)明涉及集成電路版圖設(shè)計(jì)制造領(lǐng)域，特別涉及。背...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。
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