技術(shù)編號：65277
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種用來將4f4反固持在處理腔室屮的靜電吸座(elect.rost.aticcchuck),以及其相關(guān)的制造方法。背景技術(shù)在諸如半導(dǎo)體晶圓或顯示器的類的基板處理期間,基板是被放置在處理腔室內(nèi)的支撐座上，M時將處理腔室維持在適當(dāng)?shù)奶幚項(xiàng)l件下。在-、典型處理中，以激發(fā)氣體來處理基板(例如，蝕刻或沉積材料于基板k)，或執(zhí)行其它工作(例如，清潔腔室內(nèi)表面)。處理期間，將-一處理氣體弓I入到處理腔室內(nèi)，此時處理腔室--般維持在低壓甚至真空狀態(tài)。以RF或微波能量將處理氣體激發(fā),被激發(fā)的氣體一般含有高度腐蝕性的...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。