技術(shù)編號(hào)：6511629
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)計(jì)。本發(fā)明實(shí)現(xiàn)了在一個(gè)仿真作業(yè)中連續(xù)掃描工藝角，并以工藝角為自變量，使仿真程序輸出以器件模型在各種工藝角條件下的參數(shù)值，或仿真電路在各種工藝角條件下的性能響應(yīng)值為應(yīng)變量的波形曲線圖的掃描仿真方法，使器件模型或仿真電路在各種工藝角條件下的工藝性能偏差在同一個(gè)坐標(biāo)系內(nèi)呈現(xiàn)出來，為設(shè)計(jì)人員提供直觀的技術(shù)參照，對(duì)電路進(jìn)行適當(dāng)?shù)墓に嚻钤O(shè)計(jì)，防止由于工藝的偏差影響而使電路出現(xiàn)致命的缺陷，大大簡化了仿真程序的處理流程，提高設(shè)計(jì)人員的研發(fā)效率。專利說明...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。
請(qǐng)注意，此類技術(shù)沒有源代碼，用于學(xué)習(xí)研究技術(shù)思路。