技術(shù)編號(hào)：6483966
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種版圖參數(shù)提取方法，尤其是。背景技術(shù)針對(duì)在輻射環(huán)境下電子系統(tǒng)對(duì)集成電路的需求，已經(jīng)有大量的抗輻射加固技術(shù)相繼出現(xiàn)，其中環(huán)形柵結(jié)構(gòu)的晶體管對(duì)抑制總劑量輻射效應(yīng)所引起的漏電非常有效，是最常用的抗輻射加固技術(shù)之一。在設(shè)計(jì)集成電路時(shí)通常需要對(duì)所設(shè)計(jì)的版圖進(jìn)行參數(shù)提取，這樣做主要有兩個(gè)目的 一個(gè)是從版圖上提取電路信息，主要是器件類型及其寬長比，以期和之前所設(shè)計(jì)的電路進(jìn)行對(duì)比(LVS),以保證版圖設(shè)計(jì)的正確性；另外 一個(gè)是將實(shí)際版圖中所存在的可能對(duì)電路性能...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。
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