技術(shù)編號：6392825
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種仿真方法和仿真裝置，尤其涉及一種曝光系統(tǒng)的仿真方法和仿真裝置。背景技術(shù)在半導(dǎo)體裝置、液晶顯示裝置等的制造過程中，需要較多曝光(Lithography)和顯影(Development)制程，而該制程通常較為復(fù)雜，良率較低。為提高生產(chǎn)良率，降低成本，簡化制程，業(yè)界提出了狹縫光罩(Slit Pattern Mask)方法。該方法主要是利用光通過尺寸接近光波長度的狹縫時，發(fā)生的衍射現(xiàn)象。對衍射光柵而言，在光柵后的投影面上，即使光柵的不透光部分對應(yīng)的光...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。
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