技術(shù)編號(hào)：6384111
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供了一種用于光刻膠刻蝕過程中表面演化模擬的哈?？焖偻七M(jìn)方法，屬于厚膠光刻過程模擬。背景技術(shù)傳統(tǒng)的微電子機(jī)械系統(tǒng)(MEMS)制造研究方法通常是通過大量的實(shí)驗(yàn)來得到對(duì)于某特定器件尺寸和結(jié)構(gòu)的最佳工藝條件。制造實(shí)驗(yàn)的成本投入是十分巨大的，由于最終的形貌對(duì)工藝過程中每一步條件都非常敏感，必須針對(duì)各個(gè)實(shí)驗(yàn)工藝條件組合進(jìn)行大量的實(shí)驗(yàn)，將實(shí)驗(yàn)結(jié)果比較才能得出最佳工藝條件，同時(shí)，也不利于對(duì)工藝過程機(jī)理的準(zhǔn)確理解。利用計(jì)算機(jī)對(duì)厚膠光刻工藝過程進(jìn)行模擬，可以縮短器件設(shè)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。
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