技術(shù)編號(hào):6336920
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種硬盤中具有超低飛高氣膜浮動(dòng)塊修正雷諾方程的簡(jiǎn)化二階新模型,屬于摩擦學(xué)。背景技術(shù)附圖說(shuō)明圖1所示為一硬盤內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖,主要包括磁盤盤片⑷、主軸電機(jī)⑶、傳動(dòng)手臂O)、懸臂裝置(10)、浮動(dòng)塊(9)、讀寫磁頭(8)、傳動(dòng)主軸(1)以及音圈電機(jī)(12)。另夕卜,圖1中(5)表示磁盤盤片的旋轉(zhuǎn)方向、(6)為扇區(qū)、(7)為尋道方向。多張磁盤盤片通過(guò)中心的軸孔疊放在主軸上。依靠連接在主軸上的主軸電機(jī)C3)驅(qū)動(dòng),磁盤以高速度旋轉(zhuǎn)。安裝在浮動(dòng)塊(9)上的讀寫...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。
請(qǐng)注意,此類技術(shù)沒(méi)有源代碼,用于學(xué)習(xí)研究技術(shù)思路。