技術編號：6266581
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及半導體制造設備中的一種光學測量設備的微環(huán)境控制系統(tǒng)。更具體的說，涉及提供光學測量設備內(nèi)部的溫度、壓力及潔凈度滿足大尺寸晶圓光學測量設備精度指標要求的微環(huán)境控制系統(tǒng)。背景技術隨著IC產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展，晶圓的尺寸逐步向300mm邁進，對晶圓的加工制造自動化及工藝要求也越來越高。比如，在整個晶圓的制程中，對潔凈度及環(huán)境控制的要求越來越苛刻。傳統(tǒng)的單純依靠潔凈廠房來控制環(huán)境的方法不但會造成能源的浪費，同時也很難滿足日益提高的環(huán)境指標需求。微環(huán)境技術的運...
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