技術(shù)編號(hào)：6217045
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種用于對(duì)電磁輻射進(jìn)行掃描分析的儀器設(shè)備。背景技術(shù)隨著現(xiàn)代電子系統(tǒng)主頻的提高、集成度的增加、產(chǎn)品體積的縮小，系統(tǒng)內(nèi)部信號(hào)產(chǎn)生的電磁輻射也隨之增加，從而產(chǎn)生信號(hào)與信號(hào)間的電磁干擾。這種電磁干擾大到一定程度時(shí)會(huì)影響系統(tǒng)的穩(wěn)定性甚至導(dǎo)致功能失效。同樣，由于系統(tǒng)的電磁輻射的增加，會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)與系統(tǒng)間產(chǎn)生電磁干擾。這種電磁干擾大到一定程度時(shí)，會(huì)影響另一系統(tǒng)的工作穩(wěn)定性，甚至導(dǎo)致系統(tǒng)癱瘓。為此，產(chǎn)品的電磁兼容性(EMC)指標(biāo)已經(jīng)成為產(chǎn)品能否走向市場(chǎng)的關(guān)鍵。...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。