技術(shù)編號(hào):6203133
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型公開(kāi)了一種光譜儀,包括入射狹縫、會(huì)集裝置、光柵、聚焦成像裝置和陣列探測(cè)器,所述入射狹縫設(shè)置在會(huì)集裝置的焦點(diǎn)以外,入射光束經(jīng)會(huì)集裝置后會(huì)聚入射至光柵表面,光柵入射光和出射光均以會(huì)聚方式達(dá)到光學(xué)器件,不僅可減小光學(xué)器件的尺寸,而且可使光柵出射的零級(jí)光與一級(jí)衍射光更加有效分離,有效避免光柵出射的零級(jí)光直接入射聚焦成像裝置,大幅降低雜散光;結(jié)合非球面光學(xué)反射鏡式的會(huì)集裝置和聚焦成像裝置,還可整體提升光譜儀的成像質(zhì)量和光學(xué)分辨率,具有設(shè)計(jì)巧妙、結(jié)構(gòu)緊湊、雜...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。