技術(shù)編號：6188484
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。一種靜電卡盤靜電吸附力及脫附時間的測量裝置，旨在提供一種能夠準(zhǔn)確測量靜電卡盤靜電吸附力大小及晶片脫附時間的裝置，包括真空腔室、靜電卡盤(10)、測量系統(tǒng)(14)和動力系統(tǒng)；所述靜電卡盤設(shè)于真空腔室內(nèi)；所述測量系統(tǒng)設(shè)于真空腔室內(nèi)，所述測量系統(tǒng)位于所述靜電卡盤的下方；所述動力系統(tǒng)安裝在所述真空腔室上，所述動力系統(tǒng)用于帶動測量靜電卡盤移動，使所述測量系統(tǒng)與靜電卡盤產(chǎn)生相對運(yùn)動。傳統(tǒng)的測量方式，由于晶片上方等離子體有效作用面積的損失，導(dǎo)致在等離子體環(huán)境下靜電力測量...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。