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一種用于測(cè)量薄膜厚度的方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):6178271

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域,尤其涉及。背景技術(shù)在半導(dǎo)體領(lǐng)域中,出于保護(hù)等目的,通常會(huì)在基體上沉積薄膜。對(duì)薄膜的厚度進(jìn)行測(cè)量的方法有多種。對(duì)于微米量級(jí)的單層薄膜,常見(jiàn)的厚度測(cè)量方法通常是先采用腐蝕等方法對(duì)沉積在基體I上的薄膜2進(jìn)行腐蝕以形成圖1所示的臺(tái)階,之后利用臺(tái)階儀3對(duì)薄膜2的厚度進(jìn)行測(cè)量,其中在進(jìn)行厚度測(cè)量時(shí),臺(tái)階儀3可以沿著圖1中所示的箭頭方向進(jìn)行移動(dòng)從而實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜2的厚度的測(cè)量。對(duì)于包含性質(zhì)相差比較大的兩層鍍層的金屬薄膜(比如位于鋼基體上的鎳層和金層),...
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