技術編號：6163220
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明提供的，采用空間光調制器，使其可以根據(jù)基板的厚度調制測量光斑，改變測量光斑的尺寸，避免產生探測光斑重影的現(xiàn)象，從而提高了探測精度，進而對基板有著較強的適應性，且調制靈活，方便可靠。專利說明[0001]本發(fā)明涉及集成電路制造領域的設備，特別涉及一種應用于投影光刻技術中的調焦調平裝置及調焦調平方法。背景技術[0002]在當今投影光刻系統(tǒng)中，由于基板的厚度偏差、面形起伏及投影物鏡、焦平面位置的不確定性，會導致基板相對于物鏡焦平面產生離焦或傾斜，這將影響集成...
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