技術編號：6130248
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明所涉及的是一種用于測量非線性光子學介質(zhì)的三階非線性折射率 的裝置，屬于非線性光子學材料和非線性光學信息處理領域。技術背景隨著光通信和光信息處理等領域的飛速發(fā)展，非線性光學材料研究日益重 要。光開關、相位復共軛、光限幅以及光調(diào)制等功能的實現(xiàn)主要依賴于非線性 光學材料的研究進展，而光學非線性測量技術是研究非線性光子學材料的關鍵 技術之一。目前常用的測量非線性光學參數(shù)方法有Z掃描、4f系統(tǒng)相干成像 技術、馬赫-曾德爾干涉法、四波混頻、三次諧波非線性干涉法、...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。