技術(shù)編號(hào)：6115404
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及低走離(low walk-off)干涉儀。背景技術(shù) 平面反射鏡干涉儀可以測(cè)量物體(例如晶片處理系統(tǒng)中的精密工作臺(tái))的位置和/或方向。對(duì)于這些用途，通常將平面反射鏡安裝在待測(cè)工作臺(tái)上，干涉儀對(duì)一個(gè)或多個(gè)測(cè)量光束進(jìn)行導(dǎo)向以使之從平面反射鏡反射。每個(gè)測(cè)量光束通常對(duì)應(yīng)于單獨(dú)的測(cè)量通道，并與相應(yīng)的參考光束合并，用于進(jìn)行產(chǎn)生測(cè)量結(jié)果的信號(hào)處理。為了減小測(cè)量光束與相應(yīng)的參考光束之間的角度間隔，某些干涉儀(通常稱為“二次通過型”干涉儀，doublepass in...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。