技術編號：6115286
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種對形成在基板上的膜進行膜厚不均勻檢查的技術。背景技術 以往，對在顯示裝置用的玻璃基板或半導體基板等(下面僅稱“基板”)的主面上形成的抗蝕膜等薄膜進行檢查時，將來自光源的光照射到薄膜上，并利用來自薄膜的反射光的光干涉，來檢查膜厚的不均勻。例如，在JP特開2003-194739號公報中公開有一種技術通過接收從光源照射的光被基板上的膜反射的光線而由攝像部取得干涉圖像，并對干涉圖像實施圖像處理來檢查基板上的膜厚不均勻的裝置中，通過選擇性地變更由攝像部...
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