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具有散射光強(qiáng)倍增系統(tǒng)的硅片表面缺陷檢測(cè)儀的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):6098479

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本發(fā)明與硅片表面缺陷檢測(cè)有關(guān),特別是一種具有散射光強(qiáng)倍增系統(tǒng)的硅片表面缺陷檢測(cè)儀,利用米氏散射原理對(duì)集成電路制造中硅片表面的缺陷進(jìn)行實(shí)時(shí)檢測(cè)。背景技術(shù) 近年來(lái),針對(duì)各類(lèi)表面缺陷的激光掃描散射檢測(cè)技術(shù)得到了快速的發(fā)展。當(dāng)聚焦的激光束在硅片表面掃描時(shí),表面的缺陷會(huì)產(chǎn)生缺陷散射光。這些缺陷散射光中包含了缺陷的形狀、種類(lèi)和位置等豐富的信息。通過(guò)光電探測(cè)器收集這些缺陷散射光,并進(jìn)行分析處理,最終得到缺陷的形狀及位置等信號(hào)?,F(xiàn)有的硅片表面缺陷檢測(cè)系統(tǒng)如圖1所示。從激光...
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